Popis produktů
PEES (pEES) nese v kyselině labilní ethoxyethoxy chránící skupinu, která může být rychle odstraněna za kyselé katalýzy. Vyznačuje se dobrou tepelnou stabilitou a velmi nízkým obsahem kovových nečistot. Může být polymerizován za účelem přípravy polyhydroxystyrenu (PHS) pro chemicky zesílený fotorezist KrF s vysokým rozlišením.
Specifikace produktů
| Název produktu | PEES/4-(Ethoxyethoxy)styren |
| Č. CAS | 157057-20-0 |
| Č. POLOŽKY | M120 |
| Vzhled | Bezbarvá čirá kapalina |
| Čistota | Větší nebo rovno 99 % |
| Obsah vody | Menší nebo rovno 0,05 % |
| Nečistoty kovových iontů | Menší nebo rovno 1 ppb |
| Balík | 100g/1kg/10kg atd. |
| Dodání | 2-3 dny |
| Skladování | pokojová teplota |
| MSDS/COA/TDS | Spojte nás |
Aplikace produktů
PEES (p-(1-etoxyethoxy)styren) se používá hlavně pro syntézu fotorezistových pryskyřic KrF v polovodičové mikroelektronice, funkčních polymerních materiálech a pokročilém průmyslu výzkumu a vývoje nových materiálů.
FAQ
Otázka: Jaké jsou požadavky na úložiště pro PEES?
A: Stabilizováno inhibitorem TBC. Skladujte uzavřené při teplotě 2 ~ 8 stupňů mimo světlo. Izolujte zdroj vzduchu a tepla, abyste zabránili samopolymeraci vinylu a předčasnému odstranění ochrany kyselinou.
Otázka: Jaký je princip monomeru PEES v systému fotorezistní pryskyřice KrF?
A: PEES obsahuje ethoxyethoxylovou ochrannou skupinu citlivou na kyseliny. Fotokyselina generovaná po litografické expozici spouští deprotekci. Pryskyřice se mění z nerozpustné v alkáliích na rozpustnou v alkáliích, aby se realizoval vývoj vzoru plátku.
Otázka: Jaká ochrana je vyžadována pro provoz PEES podle SDS?
A: Dráždí oči, kůži a dýchací cesty. Obsluha by měla být prováděna v digestoři s brýlemi, rukavicemi odolnými vůči rozpouštědlům a obličejovým štítem.
Otázka: Jaký je hlavní rozdíl mezi fotorezistními monomery PEES a pACS / PTBS?
A: PEES má ethoxyethoxylovou ochrannou skupinu s rychlou kyselou deprotekcí. pACS potřebuje k deprotekci hydrolýzu, PTBS má terc-butoxyskupinu. Jsou navrženy pro různé citlivosti fotorezistu.
Otázka: Co se stane s kyselinou labilní ochrannou skupinou monomeru PEES během expozice fotorezistu KrF?
Odpověď: Při expozici se vytváří fotokyselina. Ochranná skupina ethoxyethoxy se rychle štěpí. Polymer se mění na fenolickou hydroxylovou strukturu, která se mění z nerozpustné v alkáliích na rozpustnou v alkáliích pro vývoj litografického vzoru.
Populární Tagy: cas no:157057-20-0 pees/4-(ethoxyethoxy)styren, Čína cas no:157057-20-0 pees/4-(ethoxyethoxy)styren výrobci, dodavatelé
